马鞍山光面铝板研磨抛光

　　镜面抛光直接取决于光洁度的高低，直接解译为像镜面一样光洁，Ra0.2以下等 　　镜面抛光分成机械镜面抛光和化学溶液镜面抛光。在这里海德研磨与大家分享的主要是机械镜面抛光，所使用的设备是平面抛光机。 　　机械镜面抛光是在金属材料上经过磨光工序(粗磨、细磨)和抛光工序(WENDT三步抛光)从而达到平整、光亮似镜面般的表面。 　　镜面抛光加工工艺 　　一、研磨工序 　　研磨的目的是为了获得平整光滑的磨面。此时磨面上还留有极细而均匀的磨痕。研磨分为粗磨和精磨两种。 　　1.粗磨 粗磨是将粗糙的表面和不规则外形修正成形。 　　2.精磨 经过粗磨后金属表面尚有很深的磨痕，需要在细磨中消除，为抛光做准备。 　　二、镜面抛光工序 　　抛光工序是为了获得光亮似镜的表面加工过程。多数采用抛光轮来反复磨光后的零件表面上极微小的不平，通用于镀层表面的修饰。 　　抛光是镀层表面或零件表面***—道工序，其目的是要消除在磨光工序后还残留在表面上的细微磨痕。理想的抛光面应该是平整、光亮、无痕、天浮雕、无坑、无金属扰乱层的似镜面状态的表面。经过研磨与抛光后的磨面变化。马鞍山光面铝板研磨抛光

金属材料的抛光过程中，为了能够快速地在加工表而形成一层软而脆的氧化膜，便于后续的机械去除，从而提高抛光效率和表而平整度，通常会在抛光液中加入一种或多种氧化剂。 　　氧化剂种类会对抛光效果产生影响。抛光金属钨时常用的氧化剂有H2O2、 Fe(N03 ) 3及其混合物。H2O2氧化性较弱，氧化反应**发生在钨表而颗粒的边缘，只有当氧化产物溶解后，剩余的硬度较人部分才能暴露出来，参与下一次氧化反应;Fe(N03 )3中Fe氧化性较强，能在钨表而能够迅速形成硬度小、脆性人且容易去除的氧化层，从而提高了抛光效率和表而质量;当H2O2和Fe(N03 )3混合剂时发生F en ti>n反应，生成氧化性更强的过氧氢氧自由基，氧化层的形成速度进一步加快，所以相对于Fe(N03 )3抛光效率提高人约一倍。马鞍山镜面铝板研磨制造商

(3)当研磨软质材料工件时，磨粒容易嵌入工件表面，使研痕加深，从而破坏了表面光洁度。为了得到较高的表面光洁度，可采用嵌砂研具或者材质软的研具进行研磨。一般说来，被研表面光洁度是随着被研工件材料硬度的增加而得到改善的，因此，对于淬硬钢工件表面光洁度的提高，可通过提高淬火硬度的方法来达到。 　　(2)选择正确的研磨运动轨迹，关于研磨运动轨迹的种类与特点，在前面已讲过，实践表明，不同的研磨轨迹对被研表面光洁度的影响亦不同，其中，直线往复式研出的表面光洁度比较低，这是出为运动的方向性强，单纯的直线往复运动其研磨纹路足平行的，如使切痕重复加深，则不利于表面光洁度的改善。而其它如摆线式、正弦曲线式及不规则圆环线式研磨轨迹的共同特点是，运动的方向在不断地变化，研磨纹路是纵横交错的，在一定的研磨条件下，可研出较理想的表面光洁度来。

人们的生活质量在不断提高，人们对物质的要求也越来越高。在选购商品时从外观到内在质量的要求越来越讲究，产品的外观是吸引顾客的要素，所以，产品的外观质量应该和产品的内在质量一样精益求精。现在，人们对产品的要求已不再是好用，还要好看，如产品表面的光洁度，光亮度等等。所以产品的外观是否美观成了产品的要素。要使得产品的外观表面光洁铮亮，美观大方，在生产过程中对产品进行一系列的表面处理是必不可少的，表面处理的简单快速处理设备，研磨抛光机是不错的选择。研磨抛光设备和研磨材料的相互配合，能将产品表面处理成美观光亮的表面，如研磨材料中的研磨光亮剂，在研磨抛光处理中有着很重要的意义。

平面抛光过程中磨料的作用是借助于机械力，将晶片表而经化学反应后形成的钝化膜去除，从而达到表而平整化的目的。日前常用的磨料有胶体SiO2 、Al2O3及CeO2等。 　　磨料的种类决定了磨粒的硬度、尺寸，从而影响抛光效果。抛光铝实验中，相对于SiO2、Al2O3磨料能获得较好的表而平整度，表而刮痕数量少、尺寸小，其原因是胶体SiO2磨粒尺寸小，抛光时磨料嵌入晶片表面的深度较小，并且在推荐其它参数的情况下，也能获得很高的抛光效率。 　　磨料的浓度会影响抛光效果。抛光铝实验中，随着磨料 (胶体SiO2)浓度的提高，单位而积参与磨削的磨粒数日增加，所以抛光效率提高，表而刮痕尺寸缓慢增人或基本保持不变; 但磨料浓度过人时，抛光液的粘性增人，流动性降低，影响加工表而氧化层的有效形成，导致抛光效率降低。磨粒的尺寸也会对抛光效果产生影响，磨粒尺寸越小，表而损伤层厚度小。据统计，在硅片的精抛过程中，每次磨削层的厚度*为磨粒尺寸的四分之一。为了有效地减小表而粗糙度和损伤层厚度，通常采用小尺寸的胶体硅(15~20nm)来代替粗抛时的胶体硅(50~70rnm);同时通过加强化学反应及提高产物的排除速度来提高抛光效率。中山口碑好铝板研磨

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